FR-pRo-1
FR-pRo-2
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ThetaMetrisis 膜厚量測/鍍膜量測

FR-pRo Build2Order 薄膜特性量測儀

ThetaMetrisis
特點
用於反射率測量的薄膜厚度套件
FR-Mic用於在非常小的區域進行測量
手動和電動載物台
用於吸光度/透射率和化學濃度測量的薄膜/比色皿支架
熱或液體套件，用於在受控溫度或液體環境下進行測量
漫反射和全反射積分球
透過不同模組的組合，最終設定可滿足任何最終用戶的需求
點擊分析（無需初步猜測）
動態測量
n & k 測量，顏色
多個裝置用於離線分析

介紹

用於特性1nm-3mm厚度範圍內鍍膜的模組化與可擴展平台。FR-pRo 工具經過量身定制，可滿足使用者對各種非破壞性特性應用的需求，例如：薄膜厚度、折射率、顏色、透射率、反射率、溫度或環境控制環境下或液體環境下的薄膜特性等等。
FR-pRo工具由使用者選擇的模組組裝而成。核心單元容納光源、光譜儀（適用於 190nm-2500nm 範圍內的任何光譜區域）以及控制和通訊電子設備。此工具附帶一組參考樣品（Si 參考、SiO2 /Si、Si3 /N4 /SiO2 /Si）。
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FR-pRo介紹
 
型號 UV/Vis UV/Vis UV/NIR -EXT UV/NIR-HR D UV/NIR VIS/NIR D Vis/NIR NIR NIR-N1 NIR-N2 NIR-N3 NIR-N4
波長範圍(nm) 200 – 850 200 –1020 200-1100 200 – 1700 380 –1020 380 – 1700 900 – 1700 850-1050 900 - 1050 280-1350 1520-1580
像素 3648 3648 3648 3648 & 512 3648 3648 & 512 512 3648 3648 512 512
最小厚度(SiO2) 1nm 1nm 1nm 1nm 12nm 12nm 50nm 1um 4um 12um 20um
最大厚度(SiO2) 80μm 90μm 120μm 250μm 100μm 250μm 250μm 500μm 1.2mm 2mm 3mm
最大厚度(Si)               300μm*** 500μm*** 500μm*** 1.3mm***
n&k -最小厚度 50nm 50nm 50nm 50nm 100nm 100nm 500nm   - - -
厚度-準確度** 1nm / 0.2% 1nm / 0.2% 1nm / 0.2% 1nm / 0.2% 1nm / 0.2% 2nm / 0.2% 3nm / 0.4% 50nm / 0.2% 50nm / 0.2% 50nm / 0.2% 50nm / 0.2%
厚度-精度** 0.05nm 0.05nm 0.05nm 0.05nm 0.05nm 0.05nm 0.1nm   5nm 5nm 5nm
厚度-穩定度** 0.05nm 0.05nm 0.05nm 0.05nm 0.05nm 0.05nm 0.15nm   5nm 5nm 5nm
API 支援 是 是 是 是 是 是 是 是 是 - -
光源 內部平衡氘和鹵素，2000小時 鹵素（內建），3000 小時 (MTBF)
積分時間 5msec (min) 5msec (min) 20msec (min)
尺寸重量 FR-pRo: 39 x 32 x 17cm ( L x W x H ) 10Kg, FR-pRo D: 45 x 32 x 17cm ( L x W x H ) 13Kg
電源 110V/230V, 50-60Hz
光斑尺寸 直徑約 350-400 μm（可根據要求提供較小的光斑尺寸選項）
材料資料庫 > 700 種不同材料
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